Установка пробоподготовки для ПЭМ методом травления широким пучком ионов аргона UniMill IV7 производства компании Technoorg Linda Ltd. (Венгрия).
Полностью автоматизированная система ионного травления UniMill IV7 предназначена для утонения и перфорации, финальной полировки и улучшения качества поверхности тонких образцов для TEM, HRTEM, XTEM, TDK, STEM и EBSD. Кроме того, система может быть использована для повторной ионной очистки тонких ламелей (фольг) изготовленных как методом сфокусированного ионного пучка (FIB-SEM), так и другими методами предварительного утонения. Данная установка специально разработана для быстрой, эффективной и качественной подготовки тонких образцов с начальной толщиной до 100 мкм, которые предварительно были утонены с помощью механической пробоподготовки. Мгновенная остановка процесса утонения осуществляется в автоматическом режиме с применением оптической камеры высокого разрешения, что позволяет максимально точно определить момент появления сквозного отверстия.
Установка UniMill оборудована одновременно как высокоэнергетической ионной пушкой, так и ионной пушкой низкой энергии. Наличие двух типов ионных источников необходимо для гарантированного покрытия диапазонов низкой и высокой энергии - от 100 эВ до 16 кэВ. Конструкции каждой из пушек отличаются вследствие различия физических принципов формирования направленного потока ионов аргона с разными ускоряющими напряжениями.
Высокоэнергетическая ионная пушка запатентованной конструкции TELETWIN c расширенным диапазоном энергий (до 16 кэВ) создаёт широкий поток ионов аргона и обеспечивает повышенную плотность ионного тока, что позволяет достигнуть чрезвычайно высокой скорости распыления самых твёрдых материалов, таких как алмаз или сапфир. Обработка образца может осуществляться в течение длительного времени и сохраняет эффективность даже при малых углах падения ионов. Этот источник ионов демонстрирует стабильную работу вплоть до ускоряющего напряжения 16 кВ и создаёт исключительно интенсивный поток ионов аргона.
Низкоэнергетическая ионная пушка (от 100 эВ до 2 кэВ) модифицированной конструкции TELETWIN с дополнительным термоэмиссионным катодом и фокусирующей линзой для мягкого травления формирует стабильный поток ионов аргона, что позволяет проводить деликатную полировку и очистку поверхности образцов в рамках прецизионной пробоподготовки для TEM, HRTEM, XTEM, TDK, STEM и EBSD. Финальная обработка ионами аргона низкой энергии позволяет значительно снизить или полностью устранить артефакты поверхности тонкого образца, которые могли быть вызваны воздействием ионов высокой энергии, перегревом или фазовыми преобразованиями, открывая возможность детального изучения тонкой структуры с атомарным разрешением.
