Сканирующие электронные микроскопы TESCAN оснащены высокопроизводительным генератором шаблонов для литографии, основанным на быстрых 16-битных цифро-аналоговых преобразователях, позволяющих работать с виртуальным размером поля до 65 536 × 65 536 пикселей. Уникальная запатентованная технология In-Flight Beam TracingTM (которая встроена в электронную колонну и с катодом с полевой эмиссией, и с вольфрамовым катодом), позволяет «на лету» считывать и оптимизировать параметры пучка электронов, такие как диаметр пучка и ток пучка.
Опциональный модуль DrawBeam Basic предназначен для настройки и запуска стандартных процедур электронной или ионной литографии на одном поле. Минимальное время экспозиции на пиксель для всех типов моделей составляет 80 нс/пикс.
Объекты организованы в слои. Каждый слой может иметь собственные процедурные настройки с набором параметров, отвечающим поставленной задаче (например, настройки экспозиции, тип материала или резиста, режим обработки последовательный или параллельный и т.д.). Условия экспозиции подстраиваются под текущие параметры пучка и под тип материала образца или материала осаждения. Описания материалов сохраняются в базе данных, которая состоит из встроенной и пользовательской частей.
Доступны следующие функции и параметры процесса литографии (некоторые параметры можно менять прямо во время экспозиции):
Доступна визуализация процесса литографии в реальном времени. Из графического пользовательского интерфейса можно генерировать файл проекта с перечнем всех использованных настроек. Проект может быть сохранен, загружен, импортирован, экспортирован в растровое изображение.
DrawBeam Advanced разработан для тех пользователей, кому требуется создавать более сложные структуры с большей скоростью и прецизионностью.